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日本堆積学会　メールマガジン　◆2018年8月31日（825号）
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日本堆積学会  堆積学スクール2018　第1報

堆積学スクール2018の第1報をお届け致します．
今年は高知大学の奈良正和 氏，産総研の清家弘治 氏，千葉大の泉 賢太郎 氏
を講師にお招きし，生痕化石に焦点を当てた堆積学スクールを計画しております．
なお，このスクールは高知大学との共催として開催の予定です．

1.　タイトル：「生痕学の基礎」

2.　場所：　高知大学総合研究センター海洋生物研究教育施設
                   　(https://www.kochi-u.ac.jp/kaiyo/)　
            ただし，施設への個別の問い合わせはお控えください．
                     高知県室戸岬および足摺岬周辺

3.　日程：　 2018年11月3日(土)～11月6日(火)
　　11月3日　高知大学総合研究センター海洋生物研究教育施設
             集合 (13時20分)   
　　　　　　  受付は13時頃から開始します． 食事を済ませてから
              会場にお越し下さい．

　　11月3日・4日　高知大・海洋生物研にて講義
　　11月5日          巡検（足摺岬周辺を予定）
　　11月6日          巡検（室戸岬周辺を予定）
　　　　　               　15時半～16時頃　高知龍馬空港
　　　　　　               16時～16時半頃　 JR高知駅（解散）
　
4.　講師：奈良正和 氏（高知大）・清家弘治 氏（産総研）・泉 賢太郎 氏（千葉大）

5.　内容：　生痕学の基本的な概念（とくにその古生態学的側面）を講義ならびに
            露頭や現世海浜での観察を通じて紹介します．
　　　      また，参加者からも生痕学に関連する話題提供をいただく場を設けよう
            と考えています（最大5件程度，学生優先，希望者多数の場合は調整）．

6.　参加費 (宿泊費，食費，巡検バス代，保険代を含みます
            懇親会費・宿泊施設までの移動経費は含みません)：
　　  一般会員  30,000円，  学生会員  12,000円
    非会員一般  40,000円，非会員学生　17,000円
　注) 上記の予定参加費は，バス代金の変動などにより，
      多少上下する可能性があります．

7.　宿泊：　高知大学総合研究センター海洋生物研究教育施設
           （施設へのお問い合わせはお控えください）

8.　定員:  　20名（先着順．定員に達し次第締め切ります）　

9.　申し込み
　　お申し込みはメールで，件名を「堆積学スクール2018・氏名」としてください．
　　申し込み先アドレス　　conference@sediment.jp　　　
　　申し込み期間　　　　　9月5日～9月30日　　

　　申し込みメールには，下記の情報を記載して下さい
   （提供頂いた情報は堆積学スクール以外の目的では使用しません）
　　(1) 氏名　　(2) 性別　
    (3) 会員区分(一般会員，院生学生会員，非会員一般，非会員学生)  
  　(4) 所属　 (5) 所属先住所     (6) メールアドレス　(7) 緊急連絡先(携帯電話)
 　 (8) 配慮が必要な事項 (食物アレルギーなど)　
　　(9) 発表（話題提供）希望の有無　(発表を頂く方には後日，簡単な要旨の作成を依頼致します)　

注意
原則として全日参加可能な人を優先し，定員に空きがある場合に途中参加・
途中離脱を認める予定です．また，会期中に離脱の必要が生じた場合には
返金しませんので，ご了承下さい．
キャンセルならびにそのほかの詳細につきましては，第2報で参加者の
皆様に直接お知らせ致します．


＜問合せ先＞
◯スクール全般について：
酒井哲弥（行事委員長）：sake(at/)riko.shimane-u.ac.jp　
電話: 0852-32-6464（研究室直通）　0852-32-6469 (FAX)
◯スクールの内容について　　　　　　
奈良正和(高知大学)  nara(at/)kochi-u.ac.jp
((at/)を＠に変えてください)

（注）こちらのアドレスでは各種申し込みの受付はいたしません．　
　　　SPAM対策のために，メールが削除されることがあります．
　　　お問い合わせ後，返信がない場合には，
　　　お手数ですが，酒井宛てにFAXにてお問い合わせ下さい．
　　　(その場合，出張等のために返信に数日を要する場合があります)

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メールアドレス：　
ホームページURL：　http://sediment.jp/

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